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      關鍵字：清洗設備、非標設備及其它、超聲波清洗設備、Scrub清洗設備、藥液（氫氟酸）清洗設備、C02清洗設備及自動化非標設備
      


      
    
      
    
      
    
      
        
      
            
            
      
        
      
    
      

      
    
      
    
      
        
        
      
    
      

      

      
    
      
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    半導體用清洗機

      
    公司擁有完整、科學的質量管理體系，聘用了3名日本資深技術總監。我們以強大的技術力量，贏得了廣大客戶的支持與信賴，真正實現了公司與客戶的雙贏。


      
    
      
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    半導體用清洗機

      

      

      
    
      
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    產品描述

      

      

      
    
      設備概要：晶圓清洗機
      


      產品：4英寸，6英寸晶圓。 功能: 晶圓來料清洗。
      


      第1槽：純水1MHz超音波洗浄（間接清洗，避免二次金屬污染）。
      


      第2槽：薬液(SC1)1MHz超音波洗浄（間接清洗，避免二次金屬污染）。
      


      第3槽：QDR淋水。
      


      
    
      
    關鍵詞：

      
    
      
        
      
    半導體用清洗機

      

      

      

      
    
      
    
      
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